ASML đột phá với công nghệ tăng 50% sản lượng chip vào năm 2030
ASML, công ty Hà Lan chuyên sản xuất máy quang khắc siêu cực tím (EUV), vừa tìm ra phương pháp nâng công suất nguồn sáng cho cỗ máy then chốt trong sản xuất chip. Đột phá này hứa hẹn tăng sản lượng chip lên đến 50% vào năm 2030, theo thông tin từ Reuters.
Chi tiết về công nghệ mới
Michael Purvis, kỹ thuật viên phụ trách nguồn sáng EUV tại ASML, cho biết: "Đây không phải ảo thuật hay màn trình diễn ngắn hạn, mà là một hệ thống có thể tạo công suất 1.000 W trong điều kiện thực tế tại cơ sở khách hàng." Công suất này tăng từ mức 600 W hiện tại, cho phép sản xuất nhiều chip hơn mỗi giờ và giảm chi phí đáng kể.
ASML là nhà sản xuất máy EUV thương mại duy nhất trên toàn cầu. Việc tăng công suất sẽ giúp công ty duy trì lợi thế cạnh tranh trước các đối thủ mới nổi từ Mỹ và Trung Quốc, như Substrate và xLight, những startup đang huy động hàng trăm triệu USD để phát triển sản phẩm tương tự.
Ứng dụng và tác động
Máy quang khắc EUV đóng vai trò quan trọng trong sản xuất chip tiên tiến, đến mức chính phủ Mỹ và Hà Lan đã hợp tác để hạn chế xuất khẩu sang Trung Quốc. Với nguồn sáng mạnh hơn, quy trình in chip – tương tự chụp ảnh trên tấm silicon phủ chất nhạy sáng – sẽ cần thời gian phơi sáng ngắn hơn.
Theo Teun van Gogh, Phó chủ tịch phụ trách dòng máy EUV NXE tại ASML, đến cuối thập kỷ, mỗi máy có thể xử lý khoảng 330 tấm silicon mỗi giờ, tăng từ 220 tấm hiện nay. Mỗi tấm silicon có thể chứa từ vài chục đến hàng nghìn chip, tùy kích thước.
Cơ chế hoạt động và tiềm năng tương lai
Để đạt được đột phá, ASML đã cải tiến phương pháp tạo ánh sáng EUV với bước sóng 13,5 nm. Hệ thống bắn dòng giọt thiếc nóng chảy qua buồng, nơi laser carbon dioxide biến chúng thành plasma siêu nóng, phát ra ánh sáng. Công nghệ mới bao gồm:
- Gấp đôi số lượng giọt thiếc lên khoảng 100.000 giọt mỗi giây.
- Sử dụng hai xung laser nhỏ thay vì một xung để tạo plasma.
Jorge J. Rocca, giáo sư tại Đại học Bang Colorado, nhận xét: "Đây là thách thức cực lớn vì đòi hỏi sự làm chủ nhiều yếu tố và công nghệ phức tạp."
Purvis tiết lộ thêm, ASML tin rằng kỹ thuật này mở đường cho các tiến bộ tiếp theo: "Chúng tôi thấy con đường rõ ràng hướng tới mốc 1.500 W và không có rào cản cơ bản nào ngăn đạt 2.000 W." Điều này hứa hẹn tiếp tục thúc đẩy ngành công nghiệp chip toàn cầu trong những năm tới.
